Субстратҳои нитриди галлий | Вафли GaN

Субстратҳои нитриди галлий|ГаН вафли тасвири пешниҳодшуда

Тавсифи кӯтоҳ:

Нитриди галлий (GaN), ба монанди маводи карбиди кремний (SiC) ба насли сеюми маводи нимноқилӣ бо паҳнои бандҳои васеъ, дорои паҳнои бандҳои калон, гузариши гармии баланд, суръати баланди муҳоҷиршавии электронҳо ва майдони баланди шикастани барқи барҷаста тааллуқ дорад. хусусиятҳо.Дастгоҳҳои GaN дорои доираи васеи дурнамои татбиқ дар соҳаҳои басомади баланд, суръати баланд ва қувваи баланди талабот ба монанди равшании каммасрафи LED, дисплейи лазерӣ, мошинҳои нави энергетикӣ, шабакаи интеллектуалӣ, алоқаи 5G мебошанд.

Ба мо почтаи электронӣ фиристед

Тафсилоти маҳсулот

Тегҳои маҳсулот

Маводҳои нимноқилҳои насли сеюм асосан SiC, GaN, алмос ва ғайраро дар бар мегиранд, зеро паҳнои бандҳои он (Масалан) аз 2,3 электрон-волт (эВ) зиёдтар ё баробар аст, ки онро маводи нимноқилҳои фарохи фарох низ меноманд.Дар муқоиса бо маводи нимноқилҳои насли якум ва дуюм, маводи нимноқилҳои насли сеюм бартариҳои баланди гузаронандагии гармидиҳӣ, майдони электрикии шикаста, суръати баланди муҳоҷирати электронии тофта ва энергияи баланди пайвастшавӣ доранд, ки метавонанд ба талаботи нави технологияи электронии муосир ҷавобгӯ бошанд. ҳарорат, қувваи баланд, фишори баланд, басомади баланд ва муқовимати радиатсионӣ ва дигар шароити сахт.Он дорои дурнамои муҳими татбиқи он дар соҳаҳои мудофиаи миллӣ, авиатсия, аэрокосмос, иктишофи нафт, нигаҳдории оптикӣ ва ғайра мебошад ва метавонад талафоти энергияро дар бисёр соҳаҳои стратегӣ, аз қабили алоқаи фарохмаҷро, энергияи офтобӣ, истеҳсоли мошинсозӣ ва ғайра беш аз 50% кам кунад. равшании нимноқилҳо ва шабакаи интеллектуалӣ ва метавонад ҳаҷми таҷҳизотро бештар аз 75% кам кунад, ки барои рушди илм ва технологияи инсонӣ аҳамияти муҳим дорад.

Элемент 项目	GaN-FS-CU-C50	GaN-FS-CN-C50	GaN-FS-C-SI-C50
Диаметр 晶圆直径	50,8 ± 1 мм
Ғафсӣ厚度	350 ± 25 мкм
Ориентация 晶向	Ҳавопаймои C (0001) кунҷи берун аз меҳвари M 0,35 ± 0,15°
Prime Flat 主定位边	(1-100) 0 ± 0,5°, 16 ± 1 мм
Квартираи дуюм 次定位边	(11-20) 0 ± 3°, 8 ± 1 мм
гузаронанда 导电性	навъи N	навъи N	Ним изоляторӣ
Муқовимат (300K) 电阻率	< 0,1 Ом·см	< 0,05 Ом·см	> 106 Ом·см
TTV 平整度	≤ 15 мкм
КАМОН 弯曲度	≤ 20 мкм
Гаҳамвории рӯи рӯи Ga面粗糙度	< 0,2 нм (ҷилодоршуда);
	ё < 0,3 нм (табобат ва коркарди рӯизаминӣ барои эпитаксия)
N ноҳамвории рӯи рӯи N面粗糙度	0,5 ~ 1,5 мкм
	вариант: 1 ~ 3 нм (хоки хуб);< 0,2 нм (ҷилодор)
Зичии дислокатсия 位错密度	Аз 1 x 105 то 3 x 106 см-2 (бо CL ҳисоб карда шудааст)*
Зичии камбудиҳои макро 缺陷密度	< 2 см-2
Минтақаи қобили истифода 有效面积	> 90% (истиснои нуқсонҳои канорӣ ва макро)
Мувофиқи талаботи муштарӣ, сохтори гуногуни кремний, сапфир, варақи эпитаксиалии GaN дар асоси SiC фармоиш додан мумкин аст.